Interview mit dem Leiter der Fab 36
- Ersteller pipin
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EE Times hat mit Udo Nothelfer, Leiter von AMDs Fab 36 in Dresden, ein Interview geführt.
In diesem <a href="http://eetimeseurope.cmp.com/germany/188700574?pgno=1" target="b">Interview</a> mit dem Titel "AMD peilt schnelle Umstellung auf 65 Nanometer an" wurden folgende Aussagen gemacht:
<ul><li>65 nm on track, Abschluss 65-nm-Produkt- und Technologiequalifikation, Produktion zweite Hälfte 2006</li><li>Mitte 2007 Konvertierung auf 65 nm zum größten Teil</li><li>65 nm konventionelle Lithografie</li><li>45 nm Immersion</li><li>32 nm nicht mit Extreme Ultra Violet (EUV)</li><li>65 nm keine High-k-Technologie, sondern Nitride Gate-Oxide.</li><li>Mitte 2008 auf 45 nm - kein High-k</li><li>mit SOI auf dem richtigen Pfad</li><li>APM zentrales Element für Wettbewerbsposition</li><li>bei Chartered sehr gute Ergebnisse</li></ul>
In diesem <a href="http://eetimeseurope.cmp.com/germany/188700574?pgno=1" target="b">Interview</a> mit dem Titel "AMD peilt schnelle Umstellung auf 65 Nanometer an" wurden folgende Aussagen gemacht:
<ul><li>65 nm on track, Abschluss 65-nm-Produkt- und Technologiequalifikation, Produktion zweite Hälfte 2006</li><li>Mitte 2007 Konvertierung auf 65 nm zum größten Teil</li><li>65 nm konventionelle Lithografie</li><li>45 nm Immersion</li><li>32 nm nicht mit Extreme Ultra Violet (EUV)</li><li>65 nm keine High-k-Technologie, sondern Nitride Gate-Oxide.</li><li>Mitte 2008 auf 45 nm - kein High-k</li><li>mit SOI auf dem richtigen Pfad</li><li>APM zentrales Element für Wettbewerbsposition</li><li>bei Chartered sehr gute Ergebnisse</li></ul>
