Mit einem NEMO genannten Apparat zur Immersionslithografie, will IBM eine Technik entwickelt haben, mit der man die bislang als Grenze der optischen Lithografie angenommene Strukturbreite von 32 nm durchbrochen hat.
In einem Labor in San Jose (Kalifornien) hat IBM mit dieser Technik Strukturen von 29,9 nm erzeugt und ist der festen Überzeugung damit die bisher für Strukturen von weniger als 32 nm für notwendig gehaltenen signifikanten Änderungen im Herstellungsprozeß von Mikroprozessoren weiter nach hinten, IBM spricht von mehr als sieben Jahren, verschoben zu haben.
Die Immersionslithografie ist eine spezielle Abart der Fotolithografie einem lithografischem Reproduktionsverfahren, bei dem mittels Belichtung Muster auf Materialien aufgebracht werden.
“We believe that high-index liquid imaging will enable the extension of today's optical lithography through the 45- and 32-nanometer technology nodes,” said Mark Slezak, technical manager of JSR Micro, Inc. “Our industry faces tough questions about which lithography technology will allow us to be successful below 32 nanometers. This new result gives us another data point favoring the continuation of optical immersion lithography.”
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