Von zentraler Bedeutung bei der Herstellung von Microchips ist die Lithographie, d.h. das Belichtungsverfahren mit dem die Strukturen von den Maskensätzen auf den Siliziumwafer gebracht werden. Bei diesem Prinzip gerät man - insbesondere bei den in der heutigen Chipfertigung auftretenden Dimensionen von deutlich unter einem Micrometer - schnell in den Bereich der Wellenoptik, d.h. im Gegensatz zur einfachen Strahlenoptik treten Effekte wie die sogenannte Beugung auf, die die Schärfe negativ beeinflussen. Eine Möglichkeit diesem Effekt entgegenzusteuern ist der Einsatz von Laserlicht mit immer kürzeren Wellenlängen, so werden heute schon Laser mit einer Wellenlänge von ca. 200 nm verwendet - der für den Menschen sichtbare optische Bereich endet bei ca. 400 nm.
Als wichtige Forschungsziele gelten derzeit in der Chipindustrie der Einsatz der Immersionslithographie und der EUV-Lithogrophie (Extreme Ultraviolet Lithography). Um diesem Ziel näher zu kommen haben - wie nun zu lesen ist - die Chipfirmem AMD, IBM, Infineon und Micron zusammen mit einigen kleineren Firmen die Forschungsgemeinschaft "Invent" (International Venture for Nanolithography) gegründet, welche genau diesen Zielen näher kommen soll. Ebenfalls beteiligt ist an der Forschungsgemeinschaft der US Bundesstaat New York, wo auch das Forschungszentrum sein soll. Interessanterweise ist der Chipriese Intel an diesem Projekt nicht beteiligt.
Die Kooperation der Unternehmen soll insgesamt sieben Jahre andauern. Mit dem Einsatz der Immersionslithographie wird dabei in etwa 5 Jahren gerechnet, die EUV-Lithograpie soll in ca. 7 Jahren einsatzbereit sein. Thx Andreas für den Hinweis
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